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第三百六十九章 新工艺（第2页）

如果单纯的追求运算力的提升，其实可以采用超算的刀片服务器搭建方式，不断增加芯片的数量。

在商业应用上，运算力虽然是一个大指标，但是真正的核心因素，是单位运算力的能耗，即我们常说的能效比。

假如，有甲乙两款芯片，其浮点运算力都是每秒10亿次，甲芯片采用28纳米工艺，而乙芯片采用22纳米工艺，两者的单位能耗是，通常是甲高于乙。

或许个人用户感觉不明显，但是那些互联网大厂，一年要付几亿乃至几十亿电费，就不得不考虑能耗问题了。

这就是为什么，璃龙1诞生后，各大互联网公司不得不采购的原因之一，其中就有能耗的考虑。

黄修远看着眼前的芯片纺织机，12纳米工艺虽然可以生产芯片，但是速度却下降得厉害，平均每秒只能加工两三千个晶体管。

比起速度惊人的缁衣—1、缁衣—2，缁衣—4的速度明显太低了。

“修远，我打算将第二半导体实验室的立体工艺引入12纳米工艺上，你怎么看?”陆学东提议道。

放下手上的圆珠笔，黄修远思考了一会：“第二半导体实验室的立体工艺，应该没有成熟吧?”

“是的，散热是一个大问题。”陆学东无奈的摊摊手。

纺织法在立体芯片上，基本天然的优势，但是立体的多层芯片，并不是随随便便可以叠加的。

本来芯片在工作过程中，就发热非常严重，一旦采用多层叠加，那芯片的工作时，产生的热量将更加多。

这种工作热量，对于表面上下两层和边缘，还影响不大，但是中间的那些芯片层，热量会不断积累，导致芯片使用寿命迅速下降，甚至会直接烧坏芯片。

目前的16纳米工艺，可以叠加5层芯片，超过散热就是一个问题。

而工作电压更加低，晶体管更加小的12纳米工艺，极限应该在8～9层。

为什么要发展立体芯片，而不是加大芯片面积，主要原因是立体芯片，有平面芯片没有的优势，那就是占据的空间小，本身还可以多布置一些线脚。

黄修远知道未来的趋势，立体芯片是一个大趋势，要解决芯片的散热问题，只能从材料上下手。

“学东，目前的散热材料不行，必须研发新的散热材料，让芯片内部可以充分散热。”

陆学东点了点头：“思路可行，但是这个材料的要求非常高，就算是我们的热电制冷材料，都没有办法。”

从第二实验室回来张镜鉴，也加入了这个话题中，众人讨论了半天，还是没有拿出一个适合的方案。

虽然黄修远知道一些材料可以做到，但是他并不想太快推出，只能暂时搁置立体结构的方案，让第二半导体实验室继续深入研究。

临近中午饭点，萧英男向他汇报三星代表团过来的事情。

“这帮棒子，是在想桃子吃吗?”

“那……”

黄修远摆摆手：“让百杰应付一下即可，三星没有资格和我们谈判，他们只是华尔街的傀儡罢了，没有必要浪费时间。”

“我这就转告林总。”萧英男点了点头。

刚到汕美的李富真一行人，不知道自己的命运，早已被安排得明明白白，仍然在为谈判想尽办法。

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